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          • 用于大規模多肽凍干生產的冷凍干燥機,凍干有效面積從5-60平米,滿足多肽藥物的特殊需求和生產規模。多肽冷凍干燥機的主要特點凍干箱門,板層,大箱,冷阱均為304不銹鋼,敞開式結構,前箱后阱,整機潔凈度好,多肽冷凍干燥機主要部件都采用國外品牌,整機性能穩定,凍干效率好。可選擇在位清洗和滅菌,可選CIP和SIP或VHP滅菌。多肽凍干生產的冷凍干燥機可做定制化適配不同規格的西林瓶、托盤或散裝原料凍干。可根據產能需求擴展凍干面積或并聯多臺設備。可以實時監控冷凍干燥機,對泄漏、壓力異常、... 查看更多
          • 微球成型儀是一種將試劑定量滴入低溫介質(如液氮)中,使其快速冷凍成型,再通過凍干工藝制備微球狀顆粒的設備。其原理包括液滴形成(通過精密泵和噴嘴控制試劑體積)、快速冷凍(利用液氮或低溫介質固化液滴)、凍干處理(升華水分保留生物活性)。微球成型儀的使用規范與注意事項:1.液氮安全:操作需在通風環境進行,佩戴防凍手套和護目鏡。液氮補充時需防止飛濺,避免皮膚接觸。2.設備維護:定期清潔噴嘴,防止堵塞。校準定量泵,確保液滴體積準確。檢查凍干設備真空度,保證干燥效果。3.樣品處理:試劑需... 查看更多
          • 隨著生物科技的發展,糞菌移植在治療多種腸道疾病中展示了顯著的效果。為了確保糞菌在治療中的有效性和穩定性,凍干技術和微球成型工藝成為了關鍵步驟。以下是針對糞菌凍干菌球菌保護、凍干、微球成型的一體化解決方案,并附有成功案例見證。一、整體解決方案1.糞菌保護糞菌樣本的采集和處理至關重要。首先,采用特定的保護劑對糞菌中的活菌進行保護,防止在后續處理過程中活菌的損失。保護劑通常包含氨基酸、糖類和緩沖鹽等成分,能夠維持菌體的生存環境。2.凍干工藝預凍:將處理后的糞菌樣本在低溫環境下快速冷... 查看更多
          • 鈦系鋰吸附劑微球滴定法調控沉淀pH控制:通過逐滴加入氨水(NH?·H?O)或NaOH溶液調節pH至堿性范圍(通常8-10),促使鈦鋰復合物均勻沉淀。溫度與攪拌:保持反應溫度40-60℃,高速攪拌(500-1000rpm)避免局部過飽和導致顆粒團聚。表面活性劑:添加PEG、CTAB等模板劑,控制微球粒徑(目標范圍:50-200μm)。3.滴定成型采用微球成型儀(MS-1)將液體滴定到純水中,均勻成型。滴定過程需要控制滴定速度及流體流量壓力,以形成均勻小球。4.煅燒處理惰性氣氛(... 查看更多
          • 氧化鋁陶瓷磨球是由高純氧化鋁粉末配液經滴定到塑形劑中成型并干燥而成。氧化鋁球的密度約為3.6,莫式硬度為9,吸水率約為0.01%,自磨損量為0.01,由于具有上述特點,因此氧化鋁陶瓷磨球被大量應用在以下四個研磨應用中:首先說說氧化鋁陶瓷研磨球(氧化鋁陶瓷研磨滴定球)在石英粉磨中的應用,石英的硬度也很高,特別是白度要求很高的高白石英,而氧化鋁的顏色也很白,從多方面解決了高白石英的粉磨問題可以減少研磨中對石英的污染。再者了解下氧化鋁陶瓷研磨球(氧化鋁陶瓷研磨滴定球)在玻璃中的研磨... 查看更多
          • 凍干食用菌可用于即食食品、調味品、保健品等,凍干后的食用菌重量輕、體積小,便于儲存和運輸。食用菌凍干時的一些關鍵點:1.食用菌凍干時,冷凍溫度和時間,溫度大約在-30°C至-40°C;時間根據食用菌種類和厚度調整,通常幾小時。2.真空度范圍大約10-50Pa。3.一次干燥溫度和時間溫度大約-20°C至0°C;時間大約根據食用菌種類和厚度調整,通常十幾到幾十小時。4.二次干燥溫度和時間,溫度大約20°C至40°C,時間約幾小時到十幾小時。食用菌生產型凍干機的特點:凍干面積從3平... 查看更多
          • 一、納米材料與功能前驅體1.金屬/氧化物納米材料納米氧化鋅(ZnO)、納米氧化鋁(Al?O?):凍干技術制備的單分散納米顆粒(粒徑10-100nm),用于催化劑、光催化材料及電子器件,比表面積可達300-500m2/g。納米銀(Ag)、納米金(Au):凍干法避免高溫燒結導致的團聚,用于抗菌涂層和生物傳感器,表面活性保持率90%。2.碳基納米材料石墨烯量子點(GQDs)、碳納米管(CNTs):凍干技術保持其片層/管狀結構,用于超級電容器和復合材料增強相,電導率可達103S/cm... 查看更多
          • 納米粒子凍干系統方案設計1.核心工藝流程料漿制備與分散采用超聲分散或微射流均質技術,確保納米粒子均勻懸浮,避免團聚(推薦粒徑分布CV值≤10%)。添加穩定劑(如PEG、PVP)和凍干保護劑(海藻糖、甘露醇),比例需通過正交試驗優化。預凍與冰晶控制階梯降溫:從室溫以1~2℃/min降至-40℃,再快速降至-80℃(液氮輔助),抑制大冰晶形成。退火處理:在-25℃保溫2小時,優化冰晶分布,減少相分離風險。升華干燥與解析真空控制:維持50~100Pa真空度,配合冷阱溫度≤-75℃,... 查看更多
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